|
کلمات کلیدی
|
|
|
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 859
دی اکسید نیتروژن Nitrogen dioxide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Nitrogen dioxide [10102-44-0] (2011
TWA: 0.2 ppm
STEL: Non
Notations: A4
MW: 46.01
TLV® Basis: LRT irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی اکسید نیتروژن
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.2ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
[align=right]Notations، نمادها: A
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 890
اکسید پروپیلن Propylene oxide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Propylene oxide [75-56-9] (2000
TWA: 2 ppm
STEL: Non
Notations: DSEN; A3
MW: 58.08
TLV® Basis: Eye & URT irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اکسید پروپیلن
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 2ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: ساسیت; A3
MW، وزن ملکولی: 58.08
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز مواجه
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 865
اکسید نیتریک Nitric oxide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Nitric oxide [10102-43-9] (1992
TWA: 25 ppm
STEL: Non
Notations: BEI_M
MW: 30.01
TLV® Basis: Hypoxia/cyanosis; nitrosyl-Hb form; URT irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اکسید نیتریک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 25ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: BEI_M
MW، وزن ملکولی: 30.01
TLV® Basis، مبنای
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1478
اکسید روی Zinc oxide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Zinc oxide [1314-13-2] (2001
(TWA: 2 mg/m3 (R
(STEL: 10 mg/m3 (R
Notations: Non
MW: 81.37
TLV® Basis: Metal fume fever
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اکسید روی
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (2mg/m3 (R
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: (10mg/m3 (R
Notations، نمادها: ندارد
MW، وزن ملکولی: 81.37
TLV® Basis، مبنای تعیین آستان
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 764
دی اکسید کلر Chlorine dioxide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: ‡ Chlorine dioxide [10049-04-4] (1991
TWA: 0.1 ppm
STEL: 0.3 ppm
Notations: Non
MW: 67.46
TLV® Basis: LRT irr; bronchitis
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی اکسید کلر
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.1ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 0.3ppm
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 67.46
TLV® Basis، مبنای تعیی
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1488
دی اکسید نیتروژن
|
|
دی اکسید نیتروژن nitrogen dioxide
فرمول شیمیایی: NO2
وزن مولکولی: 46.01
CAS : 10102-44-0
RTECS : QW9800000
اسامی مترادف: پراکسید نیتروژن؛ تتراکسید نیتروژن
وع فایل: Word
تعداد صفحات:3
منبع: NIOSH Method
[attachment=1131]
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1252
وینیل سیکلوهگزان دی اکسید Vinyl cyclohexene dioxide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Vinyl cyclohexene dioxide [106-87-6] (1994
TWA: 0.1ppm
STEL: Non
Notations: Skin; A3
MW: 140.18
TLV® Basis: Female & male repro dam
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: وینیل سیکلوهگزان دی اکسید
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.1ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: پوست; A3
MW، وزن ملکولی: 140.18
TLV® Ba
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1474
1, 4-دی اتیلن دی اکسید
|
|
"1, 4-دی اتیلن دی اکسید" 1,4-diethylene dioxide
فرمول شیمیایی: C4H8O2
وزن مولکولی: 88.11
CAS : 123-91-1
RTECS : JG8225000
اسامی مترادف: 1, 4-دی اتیلن دی اکسید؛ دی اُکسان
وع فایل: Word
تعداد صفحات:3
منبع: NIOSH Method
[attachment=1127]
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 771
اکسید نیتروز Nitrous oxide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Nitrous oxide [10024-97-2] (1986
TWA: 50 ppm
STEL: Non
Notations: A4
MW: 44.02
TLV® Basis: CNS impair; hematologic eff; embryo/fetal dam
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اکسید نیتروز
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 50ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: A4
MW، وزن ملکولی: 44.02
TLV® Basis، مبنای تعی
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 815
اکسید منیزیم Magnesium oxide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Magnesium oxide [1309-48-4] (2000
(TWA: 10 mg/m3 (I
STEL: No
Notations: A4
MW: 40.32
TLV® Basis: URT; metal fume fever
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اکسید منیزیم
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (10mg/m3(I
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: A4
MW، وزن ملکولی: 40.32
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز
|